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上海方晟光電科技有限公司成立于2005年10月。主要從事光學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的研發(fā)與生產(chǎn)，在該領(lǐng)域內(nèi)擁有行業(yè)領(lǐng)先的核心技術(shù)。公司秉承產(chǎn)業(yè)興國、科技強國的宗旨，力圖在光電科技領(lǐng)域利用自主研發(fā)的核心技術(shù)，創(chuàng)造革命性的產(chǎn)品，為科技進步與社會進步做出貢獻。 公司以光學(xué)材料的自主研發(fā)為依托，設(shè)有獨立運行的光學(xué)材料實驗室。擁有國際領(lǐng)先的“無點陣導(dǎo)光技術(shù)”。其核心技術(shù)的成果轉(zhuǎn)化有：“納米級光散射材料”——應(yīng)用于各類澆鑄形納米導(dǎo)光板，是替代進口無點陣導(dǎo)光板材的國內(nèi)首選品牌；“可融性導(dǎo)光材料”——屬國內(nèi)首創(chuàng)技術(shù)，應(yīng)用于各類擠塑、注塑型導(dǎo)光柱/管與異形導(dǎo)光元件。 公司擁有基礎(chǔ)性研發(fā)與應(yīng)用性開發(fā)兩個團隊： 基礎(chǔ)性研發(fā)：公司獨立運行的實驗室位于北京，主要從事基礎(chǔ)性的光學(xué)材料研究，專注于PMMA、PC等導(dǎo)光材料的研發(fā)；并承擔(dān)核心導(dǎo)光材料的合成加工。 應(yīng)用性...