光催化環(huán)保設(shè)備光催化氧化裝置 |
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本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二liu、二氧化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類(lèi),苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。 利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需要與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用,對(duì)惡臭氣體及其他刺激性異味有立gan見(jiàn)影的清除效果。 惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。 利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),徹di達(dá)到脫臭及滅殺細(xì)菌的目的。 工藝原理: 光催化通常是指有機(jī)物在光的作用下,逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物_終生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、CL-等。有機(jī)物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機(jī)物分子吸收光能后進(jìn)一步發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)。后者是周?chē)h(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài),再誘導(dǎo)一系列有機(jī)污染的反應(yīng)。間接光降解對(duì)環(huán)境中難生物降解的有機(jī)污染物_重要。 利用光化學(xué)反應(yīng)降解污染物的途徑,包括無(wú)催化劑和有催化劑參與的光化學(xué)氧化過(guò)程。前者多采用氧和過(guò)氧化氫作為氧化劑,在紫外光的照射下使污染物氧化分解:后者又稱光催化氧化,一般可分為均相和非均相催化兩種類(lèi)型。均相光催化降解中較常見(jiàn)的是以Fe2+或者Fe3+及H2O2為介質(zhì),通過(guò)photo-Fenton反應(yīng)產(chǎn)生HO使污染物得到降解,非均相光催化降解中較常見(jiàn)的是在污染體系中投加一定量的光敏半導(dǎo)體材料,同時(shí)結(jié)合一定量的光輻射,使光敏半導(dǎo)體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對(duì),吸附在半導(dǎo)體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用,產(chǎn)生HO等氧化性極強(qiáng)的自由基,再通過(guò)與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部礦化。
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