| Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 用于光學(xué)器件精密加工 |
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價(jià)格：2000000 元(人民幣) | 產(chǎn)地：日本 |
| 最少起訂量：1臺(tái) | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2020-12-04 16:16:31 | 瀏覽量：118 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式：代理商 | 公司類型：外商獨(dú)資 | |
| 所屬行業(yè)：真空泵 | 主要客戶： | |
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Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 用于光學(xué)器件精密加工某光學(xué)器件制造商采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 應(yīng)用于光學(xué)器件精密加工, 通過蝕刻工藝提高光學(xué)器件的聚酰亞胺薄膜的表面光潔度.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 技術(shù)參數(shù)
Hakuto 離子刻蝕機(jī) 20IBE-J 的核心構(gòu)件離子源采用的是伯東公司代理美國(guó) 考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):
采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-J 可以使 PV、RMS分別為1.347μm和340nm的粗糙表面, 通過蝕刻其粗糙度可降低至75nm和13nm; PV、RMS分別為61nm和8nm的表面, 其粗糙度可降低至9nm和1nm. 該刻蝕工藝能有效提高光學(xué)器件聚酰亞胺薄膜的表面光潔度.
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