| Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 用于提升碳化硅微光學(xué)元件的品質(zhì) |
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價(jià)格：2000000 元(人民幣) | 產(chǎn)地：日本 |
| 最少起訂量：1臺(tái) | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2020-11-23 15:49:12 | 瀏覽量：164 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式：代理商 | 公司類型：外商獨(dú)資 | |
| 所屬行業(yè)：真空泵 | 主要客戶： | |
 在線咨詢  |
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| 聯(lián)系人:羅 (先生) | 手機(jī):15201951076 |
電話: |
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| 郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室 201206 |
某光學(xué)元件制造商為了優(yōu)化碳化硅微光學(xué)元件, 降低碳化硅微光學(xué)元件表面粗糙度, 采用 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 對(duì)其進(jìn)行優(yōu)化.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE技術(shù)參數(shù):
該制造商采用的 Hakuto 離子刻蝕機(jī) 10IBE 的核心構(gòu)件離子源是配伯東公司代理美國(guó) 考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160
伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù)：
* 可選: 可調(diào)角度的支架
Hakuto 離子刻蝕機(jī) 10IBE 配的是 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持刻蝕室的真空度. 其產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 1.結(jié)構(gòu)緊湊但功能強(qiáng)大的渦輪泵，用于 N2 時(shí)的最高抽速可達(dá) 685 l/s 2.最佳真空性能，最低功耗 3.集成的帶 Profibus 的驅(qū)動(dòng)電子裝置 TC 400 4.可在任何方向安裝 5.帶有集成型水冷系統(tǒng)以保證最大氣體流量 6.通過 M12 插接頭的 Profibus 連接 7.廣泛的配件擴(kuò)展使用范圍
運(yùn)行結(jié)果: 1. 經(jīng)過 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 對(duì)碳化硅微納結(jié)構(gòu)進(jìn)行刻蝕, 以調(diào)控結(jié)構(gòu)的線寬和深度, 使結(jié)構(gòu)表面粗糙度由約106nm降低到11.8nm. 2. 碳化硅菲涅爾波帶片展現(xiàn)出良好的聚焦和成像效果.
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