Hakuto 離子刻蝕機 IBE 用于金銅鎳銀鉑等材料微米級刻蝕 |
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價格:111 元(人民幣) | 產地:日本 |
最少起訂量:1臺 | 發(fā)貨地:本地至全國 | |
上架時間:2020-11-19 11:40:42 | 瀏覽量:320 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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經營模式:代理商 | 公司類型:外商獨資 | |
所屬行業(yè):真空泵 | 主要客戶: | |
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聯(lián)系人:羅 (先生) | 手機:15201951076 |
電話: |
傳真: |
郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206 |
Hakuto 日本原裝設計制造離子刻蝕機 IBE , 提供微米級刻蝕 , 滿足所有材料的刻蝕 , 即使對磁性材料 , 金銅鎳銀鉑等金屬及復合半導體材料 , 這些難刻蝕的材料也能進行微米級刻蝕 .
伯東離子刻蝕機 IBE 組成主要包含真空刻蝕腔體 , 樣品臺 , 離子源等 .
其配置如下 : 一. 真空腔體 伯東離子刻蝕機 IBE 的真空刻蝕腔體配置的是德國 Pfeiffer 分子泵 .
Pfeiffer 分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S , 轉速最高 90,000 rpm , 極限真空最大 1E-11 mbar , 能滿足各種各樣真空度要求 .
伯東是 Pfeiffer Vacuum 德國普發(fā)真空產品授權代理商 , 銷售維修普發(fā) Pfeiffer 真空產品已超過 20 年 .
二. 離子源 伯東離子刻蝕機 IBE 配置的美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼 離子源 .
可選的離子源包括 : 射頻離子源 : RFICP380 , RFICP220 , RFICP140 , RFICP100 , RFICP40 考夫曼離子源 : KDC160 , KDC100 , KDC75 , KDC40 , KDC10 霍爾離子源 : eH3000 , eH2000 , eH1000 , eH400 , 線性霍爾離子源 eH Linear
伯東公司是美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源亞洲總代理 .
三. 樣品臺 伯東離子刻蝕機 IBE 的樣品臺可選直接冷卻 / 間接冷卻 / 水冷 , 而且可以 0-90 度旋轉 . 其中基片尺寸大小支持 Φ3 inch , Φ4 inch , Φ5 inch , Φ6 inch , Φ8 inch 等各種尺寸 .
伯東離子刻蝕機 IBE 優(yōu)勢 : 伯東離子刻蝕機集全球好設備于一身 , 其性能也是優(yōu)越于市面上絕大部分離子刻蝕機 . 1. 刻蝕材料范圍廣, 提供微米級刻蝕 , 滿足所有材料的刻蝕, 即使對黃金 Au , 鉑 Pt , 合金等金屬及半導體材料也能提供最優(yōu)蝕刻 2. 均勻性高 , 高達 ≤±5% 3. 硅片刻蝕率可達 20 nm/min 4. 樣品臺冷卻方式多 , 可選直接冷卻 , 間接冷卻 5. 樣品臺可 0-90 度旋轉
伯東離子蝕刻機 IBE 包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產制造 , 已應用于半導體器件 , 集成電路制造 , 薄膜電路 , 印刷電路 , 手機背板鍍膜 , 手機廣角鏡頭鍍膜等 .
伯東離子刻蝕機 IBE 可選型號有 : 20IBE-J , 20IBE-C , 10IBE , 7.5IBE
若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡方式 :
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