| ASML 4022.472.37721 |
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寧德潤恒自動化設備有限公司
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ASML 4022.472.37721ASML 4022.472.37721 ：技術參數(shù)與性能特點
ASML作為全球領先的光刻設備供應商，其產(chǎn)品廣泛應用于半導體制造領域。本文將詳細介紹ASML 4022.472.37721這一型號設備的技術參數(shù)與性能特點，幫助讀者更好地了解其優(yōu)勢與應用。
基本信息
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型號：ASML 4022.472.37721
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類型：浸沒式光刻機
●
用途：用于先進集成電路制造，支持多種工藝節(jié)點
核心技術參數(shù)
1.
光源系統(tǒng)
○
光源類型：ArF（準分子激光）
○
波長：193nm
○
光源功率：≥120W
2.
投影系統(tǒng)
○
數(shù)值孔徑（NA）：1.35
○
分辨率：≤13nm
○
套刻精度：≤1.5nm
3.
工作臺系統(tǒng)
○
運動精度：≤0.1nm
○
最大加速度：≥10g
○
最大速度：≥500mm/s
4.
浸沒系統(tǒng)
○
液體：去離子水
○
溫度控制精度：≤0.01°C
○
壓力控制精度：≤0.1mbar
性能特點
1.
高分辨率與套刻精度
○
ASML 4022.472.37721采用先進的ArF光源與高數(shù)值孔徑投影系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)≤13nm的分辨率與≤1.5nm的套刻精度，滿足先進工藝節(jié)點的制造需求。
2.
高速高精度運動控制
○
工作臺系統(tǒng)具備高運動精度與加速度，能夠在短時間內(nèi)完成高精度曝光，提升生產(chǎn)效率。
3.
穩(wěn)定的浸沒系統(tǒng)
○
采用去離子水作為浸沒液體，結合高精度的溫度與壓力控制，確保曝光過程的穩(wěn)定性與一致性。
4.
智能化控制系統(tǒng)
○
集成先進的控制系統(tǒng)與算法，實時監(jiān)控與調(diào)整設備狀態(tài)，保障工藝的穩(wěn)定性和可靠性。
應用領域
●
先進邏輯芯片制造：支持7nm及以下工藝節(jié)點，滿足高性能計算、移動通信等領域的需求。
●
存儲芯片制造：應用于DRAM、NAND Flash等存儲芯片的制造，提升存儲密度與性能。
●
其他高精度微電子制造：如MEMS、Power Device等領域。
結語
ASML 4022.472.37721作為一款高性能浸沒式光刻機，憑借其卓越的技術參數(shù)與性能特點，在全球半導體制造領域占據(jù)重要地位。其高分辨率、套刻精度以及穩(wěn)定的工作環(huán)境，為先進集成電路的制造提供了堅實保障。相信隨著技術的不斷進步，ASML將繼續(xù)光刻設備的發(fā)展潮流，為半導體產(chǎn)業(yè)的繁榮做出更大貢獻。
聯(lián)系人：吳經(jīng)理 手機：18596688429（微信同號）郵箱：841825244@qq.com
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