伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO2 薄膜 |
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價(jià)格:11 元(人民幣) | 產(chǎn)地:美國(guó) |
最少起訂量:1臺(tái) | 發(fā)貨地:本地至全國(guó) | |
上架時(shí)間:2020-10-12 14:18:54 | 瀏覽量:140 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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經(jīng)營(yíng)模式:代理商 | 公司類(lèi)型:外商獨(dú)資 | |
所屬行業(yè):真空泵 | 主要客戶(hù): | |
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聯(lián)系人:羅 (先生) | 手機(jī):15201951076 |
電話: |
傳真: |
郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室 201206 |
傳統(tǒng)直接蒸發(fā) HfO2塊材料, 容易產(chǎn)生節(jié)瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光損傷閾值, 因此, 為了獲取高質(zhì)量的 HfO2 薄膜, 某機(jī)構(gòu)采用 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO2 薄膜.
客戶(hù)的樣品基底材料為 K9 玻璃, 靶材為 HfO2塊材料, 運(yùn)行的離子源偏壓為 90V.
伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù):
* 可選: 可調(diào)角度的支架
應(yīng)用結(jié)果:通過(guò)使用伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 在偏壓為 90V 時(shí), 制造得到的HfO2 薄膜晶粒減小, 膜結(jié)構(gòu)更均勻, 緩解了激光能量的局部聚焦, 因此具有較高的損傷閾值.
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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