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基本參數(shù)

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中文名稱:三氟化氮
英文名稱:Nitrogen trifluoride
中文別名:氟化氮;
英文別名:232-007-1; trifluoroamine
CAS號(hào):7783-54-2
分子式:NF3
分子量:71.0019

物理性質(zhì)：
1.性狀：無(wú)色、帶霉味的氣體。
2.熔點(diǎn)（oC）：-208.5
3.沸點(diǎn)（oC）：-129
4.相對(duì)密度（水=1）：1.89（沸點(diǎn)，液體）
5.相對(duì)蒸氣密度（空氣=1）：2.45
6.臨界溫度（oC）：-39.3
7.臨界壓力（MPa）：4.53
8.溶解性：不溶于水。

VaporPhaseImpurities

氣相雜質(zhì)

氣體說(shuō)明

三氟化氮（nitrogen trifluoride）化學(xué)式NF3，在常溫下是一種無(wú)色、無(wú)臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對(duì)硅和鎢化合物，高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對(duì)氧化硅和硅），它在蝕刻時(shí)，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。

用途
三氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學(xué)激光器中zui有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無(wú)污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。

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包裝規(guī)格