HMDS真空干燥箱 HMDS預(yù)處理系統(tǒng) |
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價格: 元(人民幣) | 產(chǎn)地:本地 |
最少起訂量:1 | 發(fā)貨地:本地至全國 | |
上架時間:2022-07-30 23:59:41 | 瀏覽量:16 | |
安徽寧懷儀器有限公司
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所屬行業(yè): | 主要客戶:全國 | |
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產(chǎn)品簡介
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對真空干燥箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。 詳情介紹 技術(shù)參數(shù): HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性: 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要,光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形 轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。HMDS真空干燥箱 HMDS預(yù)處理系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的原理: HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對真空干燥箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。HMDS真空干燥箱 HMDS預(yù)處理系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程: 先確定工作溫度。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_真空泵抽真空,待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后,開始充人氨氣,充到達(dá)到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氨氣的過程,到達(dá)設(shè)定的充入氫氣次數(shù)后,開始保持一段時間,使硅片寧懷儀器充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氨氣,完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:先加熱到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表而生成硅醒,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理, |
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