制藥廠廢氣污染治理設(shè)備,光氧催化廢氣處理器定做 |
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UV光氧催化分解廢氣分子:運(yùn)用253.7納米波段光切割、斷鏈、燃燒、裂解廢氣分子鏈,改變分子結(jié)構(gòu),為第一重處理;取185納米波段光對(duì)廢氣分子進(jìn)行催化氧化,使破壞后的分子中子或原子以O3進(jìn)行結(jié)合,使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在催化氧化過程中,轉(zhuǎn)變成低分子化合物CO2、H2O等,為第二重處理;再根據(jù)不同的廢氣成分配置27種以上相對(duì)應(yīng)的惰性催化劑,催化劑采用蜂窩狀金屬網(wǎng)孔作為載體,全方位與光源接觸,惰性催化劑在338納米光源以下發(fā)生催化反應(yīng),放大10-30倍光源效果,使其與廢氣進(jìn)行充分反應(yīng),縮短廢氣與光源接觸時(shí)間,從而提高廢氣凈化效率,催化劑還具有類似于植物光合作用,對(duì)廢氣進(jìn)行凈化效果,為第三重處理,通過三重處理后的廢氣其除臭最高可達(dá)99%以上,凈化、脫臭效果大大超過GB16297-1996《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》二級(jí)排放標(biāo)準(zhǔn),GB14554-93《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》。最后經(jīng)高能紫外線光解催化氧化處理后的廢氣通過后端風(fēng)機(jī)抽風(fēng)形成負(fù)壓從15m煙囪安全、達(dá)標(biāo)的排放到大氣中。 |
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