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離子源類型雖多, 目的卻無非在線清洗, 改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量.  離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度, 同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善.  若是鍍工具耐磨層, 一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高, 可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源, 如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源. 

為了保證鍍燈具鋁膜的質(zhì)量, 提高生產(chǎn)率. 經(jīng)過我司推薦采用大尺寸KRI 考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產(chǎn)設(shè)備 2050 mm 蒸鍍機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) LED-DBR 離子輔助鍍膜, 大大提高了鍍膜質(zhì)量和提高生產(chǎn)率.

霍爾離子源是陽(yáng)極在一個(gè)強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的協(xié)作下將工藝氣體等離子化.  這個(gè)軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)不平衡性將氣體離子分離并形成離子束.  由于軸向磁場(chǎng)的作用太強(qiáng), 霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流.  常見的中和源就是鎢絲（陰極）. 

霍爾離子源的特點(diǎn)是：

1簡(jiǎn)單耐用. 

2離子電流與氣體流量幾乎成比例, 可獲得較大離子電流. 

3鎢絲一般橫跨在出口, 收離子束沖擊很快會(huì)銷蝕, 尤其對(duì)反應(yīng)氣體, 一般十幾個(gè)小時(shí)就需更換. 并且鎢絲還會(huì)有一定的污染.  為解決鎢絲的缺點(diǎn).  有采用較長(zhǎng)壽中和器的, 如一個(gè)小的空心陰極源. 

KRI 考夫曼離子源客戶案例: 國(guó)內(nèi)某知名燈具制造商
1. 離子源應(yīng)用: 鍍燈具鋁膜.
2. 系統(tǒng)功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).
3. 離子源: 采用美國(guó)KRI 考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界最高等級(jí), 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設(shè)計(jì)所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機(jī)中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到最高生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過 KRI EH 5500 霍爾源實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的燈具無論是環(huán)境脫膜測(cè)試, 耐刮測(cè)試, 膜層應(yīng)力測(cè)試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.

                   EH 5500 離子源本體

                    EH 5500 離子源控制器

上海伯東是美國(guó)KRI 考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國(guó)總代理. 美國(guó)KRI 考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使濺射時(shí)靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI 考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI 考夫曼離子源.