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\r \r \r光學(xué)行業(yè)設(shè)備用于清洗玻璃上研磨粉，保護(hù)膠，保護(hù)漆，指紋，玻璃粉，灰塵，有機(jī)物等雜質(zhì)。超聲波清洗工藝一般用在去膠和鍍膜前，去膠的清洗比較粗糙，目前較多采用<\/span>1~3<\/span>槽設(shè)備，用有機(jī)溶劑為清洗劑。<\/span> \r<\/p>\r\r去膠超聲波清洗設(shè)備一般為手動(dòng)<\/span>1~3<\/span>槽<\/span>,<\/span>槽體尺寸根據(jù)客戶(hù)要求定做。<\/span>設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，構(gòu)造簡(jiǎn)潔，清洗效果優(yōu)良，性能穩(wěn)定且價(jià)格便宜。<\/span><\/span> \r<\/p>\r\r光學(xué)行業(yè)有機(jī)溶劑設(shè)備采用：<\/span>2mm <\/span>厚<\/span>304/316L<\/span>材質(zhì)，日本進(jìn)口超聲波振子，正弦波第三代超聲波發(fā)生器（具有功率調(diào)節(jié)，定時(shí)，掃頻功能），振子安裝及清洗槽設(shè)計(jì)按照美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)。采用進(jìn)口低密度貼片式加熱器，原裝進(jìn)口高精度溫控器，高穩(wěn)定性電子元器件（按照美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)）。<\/span> \r<\/p>\r\r設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：<\/span>1<\/span>。設(shè)備質(zhì)量保證<\/span>2<\/span>年（同行全國(guó)**）<\/span> \r<\/p>\r\r <\/span>2<\/span>。設(shè)備保證達(dá)到客戶(hù)清洗要求。<\/span> \r<\/p>\r\r <\/span>3<\/span>。設(shè)備有冷卻設(shè)計(jì)（國(guó)內(nèi)首創(chuàng)，非常重要，阻止溶劑揮發(fā)）<\/span> \r<\/p>\r\r鍍膜前超聲波清洗設(shè)備一般為<\/span>5~13<\/span>槽半自動(dòng)，設(shè)備復(fù)雜，采用<\/span>DI<\/span>水清洗，<\/span>IPA<\/span>蒸汽干燥。正壓沉流罩，高效過(guò)濾器，高效過(guò)濾循環(huán)，四面溢流，圓角清洗槽，多頻率超聲波等工藝，確保工件清洗后達(dá)到表面無(wú)水痕，無(wú)顆粒物，且干燥的目的，為下到鍍膜工藝打基礎(chǔ)。<\/span> \r<\/p>\r\r光學(xué)行業(yè)的水劑設(shè)備采用：<\/span>2mm <\/span>厚<\/span>304/316L<\/span>材質(zhì)，日本進(jìn)口超聲波振子，正弦波第三代超聲波發(fā)生器（具有功率調(diào)節(jié)，定時(shí)，掃頻功能），振子安裝及清洗槽設(shè)計(jì)按照美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)。采用進(jìn)口低密度貼片式加熱器，原裝進(jìn)口高精度溫控器，高穩(wěn)定性電子元器件（按照美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)）。<\/span> \r<\/p>\r\r設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：<\/span>1<\/span>。設(shè)備質(zhì)量保證<\/span>2<\/span>年（同行全國(guó)**）<\/span> \r<\/p>\r\r <\/span>2<\/span>。設(shè)備保證達(dá)到客戶(hù)清洗要求。<\/span> \r<\/p>\r\r \r<\/p>\r<\/div><\/div>
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