本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體和TiO2光催化，催化裂解惡臭氣體如：氮、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、K2S2、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
TiO2光催化的催化化性在很大程度上影響光催光反應(yīng)速率，而TiO2光催光活性主要受TiO2的晶型和粒徑的影響。銳鈦型TiO2的催化活性高。隨著粒徑的減少，電子與空穴簡單復(fù)合的概率降低，光催化活性增大。另外，孔隙率、平均孔徑、粒子表面狀態(tài)，純度等對其光催化活性也均有一定影響。為了提高光降解效率，對TiO2光催化劑進化改性，如研制納米TiO2，制備TiO2的復(fù)合半導(dǎo)體，金屬離子摻雜、染料光敏化等。也可以采用各種先進的手段制備TiO2催化劑，以提高光催化劑的活性。
利用高能臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O一+O*（活性氧）O+O2→O3（臭氧），眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的效果。
利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，徹底達到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。UV紫外光光催化除臭設(shè)備產(chǎn)品特點：
①運行成本低：本設(shè)備能耗低（每處理1000m3/h，僅耗電0.54度），無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，設(shè)備風(fēng)阻低<30pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
②無預(yù)處理和環(huán)境要求:惡臭氣體無需進行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境度在攝氏-300C-950C之間，溫度在30%-98%、PH值在3-11之間均可正常工作。
③設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積<1.5平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
④優(yōu)質(zhì)材料制造:防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定、使用壽命長等。
⑤環(huán)保高科技產(chǎn)品：采用國際上的技術(shù)理念，通過及我公司工程技術(shù)人員長期反復(fù)的試驗，開發(fā)研制的設(shè)備產(chǎn)品，可徹底分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能達到完美的脫臭效果，經(jīng)過分解后的惡臭氣體，可完全達到無害化排放，絕不會產(chǎn)生二次污染，同時達到高效快速消毒殺菌的作用。
⑥高效快速除惡臭：能高效快速去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達90%上,脫臭效果大大超過頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。
⑦無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
⑧適應(yīng)性能強：可適應(yīng)高濃度、大氣量、不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行安全穩(wěn)定可靠。
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除臭處理技術(shù)
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設(shè)備
投資
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處理
風(fēng)量
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處理
濃度
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運營
成本
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運行
管理
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脫臭
效率
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二次
污染
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直接燃燒法
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高
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小
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高
|
高
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難
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高
|
有
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|
活性炭吸附法
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低
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中
|
低
|
高
|
易
|
低
|
無
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化學(xué)催化法
|
高
|
小
|
高
|
高
|
難
|
高
|
有
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臭氧除臭法
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高
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中
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中
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高
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難
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中
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無
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生物洗滌分解法
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中
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中
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中
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低
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難
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中
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有
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等離子裂解法
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高
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大
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低
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低
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易
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中
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無
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UV光解法
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低
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大
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高
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低
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易
|
高
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無
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UV光解廢氣處理法與其他處理方法的比較
附：《中華人民共和國標(biāo)準(zhǔn)－惡臭污染排放標(biāo)準(zhǔn)》GB14554-93
惡臭污染物廠界標(biāo)準(zhǔn)值是對無組織排放源（指沒有排氣筒或排氣筒高度低于15m的排放源）的限值，見表。
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序號
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控制項目
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單位
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一級
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二級
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三級
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新擴改建
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現(xiàn)有
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新擴改建
|
現(xiàn)有
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|
1
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氨
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mg/m3
|
1.0
|
1.5
|
2.0
|
4.0
|
5.0
|
|
2
|
胺
|
mg/m3
|
0.05
|
0.08
|
0.15
|
0.45
|
0.80
|
|
3
|
硫化氫
|
mg/m3
|
0.03
|
0.06
|
0.10
|
0.32
|
0.60
|
|
4
|
甲硫醇
|
mg/m3
|
0.004
|
0.007
|
0.010
|
0.020
|
0.035
|
|
5
|
甲硫醚
|
mg/m3
|
0.03
|
0.07
|
0.15
|
0.55
|
1.10
|
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6
|
K2S2
|
mg/m3
|
0.03
|
0.06
|
0.13
|
0.42
|
0.71
|
|
7
|
二硫化碳
|
mg/m3
|
2.0
|
3.0
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5.0
|
8.0
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10
|
|
8
|
苯乙烯
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mg/m3
|
3.0
|
5.0
|
7.0
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14
|
19
|
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9
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臭氣濃度
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無量綱
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10
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20
|
30
|
60
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70
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惡臭污染物廠界標(biāo)準(zhǔn)值
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物質(zhì)名稱
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惡臭氣體主要來源
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硫化氫
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牛皮紙漿、煉油、煉焦、石化、煤氣、糞便處理、二硫化碳的生產(chǎn)或加工
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硫醇類
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牛皮紙漿、煉油、煤氣、制藥、農(nóng)藥、合成樹酯、合成纖維、橡膠
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硫醚類
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牛皮紙漿、煉油、農(nóng)藥、垃圾處理、生活污水下水道
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氨
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氮肥、硝酸、煉焦、糞便處理、肉類加工
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胺類
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水產(chǎn)加工，畜產(chǎn)加工、皮革、骨膠
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類
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糞便處理、生活污水處理、煉焦、肉類腐爛、屠宰牲畜
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硝基
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燃料
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烴類
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煉油、煉焦、石油化工、電石、化肥、內(nèi)燃機排氣、油漆、溶劑、油墨印刷
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醛類
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煉油、石油化工、內(nèi)燃機排氣、垃圾處理、鑄造
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惡臭氣體的主要來源
四、UV紫外光光催化除臭設(shè)備的適應(yīng)范圍：
適用于噴漆廢氣處理、油墨廢氣處理、塑膠廢氣處理、化工廢氣處理、制藥廢氣處理、污水池臭氣處理、鉰料廢氣處理、鑄造廢氣處理等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化 (廣泛用于覆膜砂廢氣處理，飼料發(fā)酵廢氣處理、噴漆廢氣處理、漆包線廢氣處理等）。
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