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鉬靶材

鉬靶 密度10.2克/立方厘米。
熔點(diǎn)2610℃。
沸點(diǎn)5560℃。

鉬靶材純度：99.9% ，99.99%

規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶

鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。

純度：純鉬≥99.95%，高溫鉬≥99%（添加稀土元素）

密度：≥10.2g/cm3

熔點(diǎn)：2610℃

供貨狀態(tài)：成品態(tài)

規(guī)格：根據(jù)客戶要求定制

生產(chǎn)工藝流程：

鉬坯(原材料)-檢驗(yàn)-熱軋--堿洗-冷軋-校平-機(jī)械加工-檢驗(yàn)-包裝

包裝方式:木箱包裝

工期：定制15天內(nèi)交貨（庫(kù)存隨時(shí)發(fā)貨）。

發(fā)貨方式：快遞或物流（可協(xié)商）

運(yùn) 費(fèi)：供應(yīng)商承擔(dān)。

后期服務(wù)：保質(zhì)期內(nèi)如出現(xiàn)質(zhì)量問題，供方承擔(dān)所有責(zé)任（正常使用范圍內(nèi)）。

鉬材料適用環(huán)境：真空環(huán)境或惰性氣體保護(hù)環(huán)境，純鉬較高耐高溫1200度，鉬合金較高耐高溫1700度。

鉬材料的適用行業(yè)及用途：鉬材料主要用在真空高溫行業(yè)，電子行業(yè)，藍(lán)寶石熱場(chǎng)及航空航天制造行業(yè)等，鉬材料經(jīng)過變形量達(dá)到60%以上的軋制加工后，鉬的密度基本上接近于理論密度，因此其具有高強(qiáng)度，內(nèi)部組織均勻和優(yōu)良的抗高溫蠕變性能，被廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)爐內(nèi)的反射屏，蓋板真空爐內(nèi)的反射屏，發(fā)熱帶，連接件，等離子鍍膜用的濺射靶材，耐高溫舟皿等制品。

公司：洛陽(yáng)高新四豐電子材料有限公司

聯(lián)系人：王經(jīng)理