粗大浓稠硕大噗嗤噗嗤h,精品人妻码一区二区三区,国产av无码专区亚洲精品,日韩a片无码毛片免费看小说

半導(dǎo)體硅片研磨液拋光液 IC半導(dǎo)體硅片襯底晶圓減薄研磨液 CMP研磨拋光液 碳化硅襯底研磨拋光液 氮化鎵襯底研磨拋光液 硅片拋光液 硅晶圓拋光研磨液

產(chǎn)品概述：
半導(dǎo)體硅片研磨液拋光液HS-300系列是我司針對(duì)半導(dǎo)體硅片研磨減薄、精拋光工藝，專(zhuān)門(mén)研發(fā)的系列拋光液，包含粗拋液、中拋液和精拋液，采用全新的先進(jìn)合成工藝，具有高濃縮度，磨料粒徑分布均勻，不沉淀、不結(jié)晶，表面張力小，對(duì)有機(jī)物、金屬離子、顆粒物容易清洗，優(yōu)秀的材料去除率，拋光速率高，高溫下不出現(xiàn)非均勻蝕坑，高平坦度表面拋光，不會(huì)對(duì)工件造成物理?yè)p傷，拋光一致性好，表面質(zhì)量高，光潔度好，循環(huán)能力強(qiáng)，性能穩(wěn)定。

適用范圍：
半導(dǎo)體硅片研磨液拋光液HS-300系列可用于硅片、再生晶圓、鍍膜硅片、外延碳化硅襯底、氮化鎵襯底的粗拋、中拋、精拋工藝，快速減薄和拋光。達(dá)到納米級(jí)化學(xué)機(jī)械拋光，光滑如鏡，滿足半導(dǎo)體高質(zhì)量晶片的組裝工藝要求。
可用于行星式研磨機(jī)、旋盤(pán)式研磨機(jī)、輪盤(pán)式研磨機(jī)、旋轉(zhuǎn)碟式研磨機(jī)；垂直式拋光機(jī)、旋盤(pán)式拋光機(jī)、行星式拋光機(jī)等研磨拋設(shè)備。

產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.粒徑分布均勻，去除率高，拋光性能穩(wěn)定；
2.半導(dǎo)體硅片研磨液拋光液HS-300可用于35℃以下，低溫拋光工藝；
3.高濃縮度，稀釋比例高，循環(huán)性好，性價(jià)比高；
4.分散性好，不凝聚、不結(jié)晶，易清洗，無(wú)殘留，光潔度高；
5.高平坦度，拋光精度高，一致性好，對(duì)工件表面無(wú)劃傷。
6.可根據(jù)工藝要求設(shè)計(jì)定制硅晶圓工件研磨拋光的優(yōu)化解決方案。

使用方法：
1.半導(dǎo)體硅片研磨液拋光液HS-300和去離子水1:15~20倍稀釋?zhuān)?/span>
2.也可根據(jù)實(shí)際工藝要求改變配比；
3.循環(huán)拋光可以用原液。

注意事項(xiàng)：
1.貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為5-35℃，
2.低于0℃以上儲(chǔ)存，防止結(jié)冰，在5℃以下因產(chǎn)生凝膠，不可再分散，結(jié)塊而失效，
3.避免敞口長(zhǎng)期與空氣接觸，防止污染物進(jìn)入，
4.避免漿料長(zhǎng)期殘留在管路和容器中造成凝膠，
5.循環(huán)使用時(shí)，需在管口添加過(guò)濾裝置，以免反復(fù)應(yīng)用時(shí)造成晶片表面劃傷。

包裝規(guī)格：25kg/桶