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設備簡介：

耙材噴涂生產(chǎn)線 及 制粉系統(tǒng)
等離子噴靶材鉻靶、鈦靶、硅鋁靶設備
供應生產(chǎn)線--鍍膜靶材噴涂及先進的制造設備技術
生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術特點：
應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業(yè)
產(chǎn)品遠銷東南亞等地與廣大客戶建立了良好的合作關系。優(yōu)良的產(chǎn)品質(zhì)量和及時的服務為企業(yè)贏得了良好的口碑。目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點的蒸發(fā)鍍膜方式，其很多方面的優(yōu)勢相當明顯。作為一項已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術，磁控濺射已經(jīng)被應用于許多領域。

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻
生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術構成：
采用等離子噴涂 （提供 SX~R全自動噴砂設備、SX-80全自動噴涂設備、系列配置靶材噴涂硅鋁粉制設備及工藝、噴涂房配置設計等先進方案）

噴涂房 （隔音標準化、環(huán)保生態(tài)化、人性化、產(chǎn)量化高）