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工業(yè)設(shè)備清洗 酸洗鈍化廠家 找藍(lán)化化學(xué)清洗
硅片經(jīng)過不同工序加工后，其表面已受到嚴(yán)重沾污，一般講硅片表面沾污大致可分在三類：



A. 有機雜質(zhì)沾污：可通過有機試劑的溶解作用，結(jié)合超聲波清洗技術(shù)來去除。



B. 顆粒沾污：運用物理的方法可采機械擦洗或超聲波清洗技術(shù)來去除粒徑 ≥ 0.4 μm顆粒，利用兆聲波可去除 ≥ 0.2 μm顆粒。



C. 金屬離子沾污：必須采用化學(xué)的方法才能清洗其沾污，硅片表面金屬雜質(zhì)沾污有兩大類：



a. 一類是沾污離子或原子通過吸附分散附著在硅片表面。



b. 另一類是帶正電的金屬離子得到電子后面附著（尤如“電鍍”）到硅片表面。

硅拋光片的化學(xué)清洗目的就在于要去除這種沾污，一般可按下述辦法進行清洗去除沾污。
a. 使用強氧化劑使“電鍍”附著到硅表面的金屬離子、氧化成金屬，溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。
b. 用無害的小直徑強正離子（如H ）來替代吸附在硅片表面的金 屬離子，使之溶解于清洗液中。
c. 用大量去離水進行超聲波清洗，以排除溶液中的金屬離子。