| 光刻膠AZ膠正膠負(fù)膠AZ5214EAZ5200EAZ4562AZ1500系列 |
 |
價(jià)格：4200.00 元(人民幣) | 產(chǎn)地：江蘇蘇州 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：江蘇蘇州 | |
| 上架時(shí)間：2023-12-14 08:03:04 | 瀏覽量：332 | |
武漢邁可諾科技有限公司
 |
||
| 經(jīng)營(yíng)模式：代理商 | 公司類型：私營(yíng)有限責(zé)任公司 | |
| 所屬行業(yè)：實(shí)驗(yàn)室設(shè)備/實(shí)驗(yàn)室儀器 | 主要客戶：高校實(shí)驗(yàn)室科研單位 | |
 在線咨詢  |
||
| 聯(lián)系人:趙經(jīng)理 (先生) | 手機(jī):18221354817 |
電話: |
傳真: |
| 郵箱:tchiu@mycroinc.com | 地址:武珞路628號(hào)亞洲貿(mào)易廣場(chǎng) |
AZ5214E高解像度圖形反轉(zhuǎn)正/負(fù)可改變型光刻膠，特別為lift-off工藝優(yōu)化。AZ5214E勻膠厚度1.5μm~3μm，AZ5200E系列勻膠厚度為：0.5μm~6μm。 AZ5214E特征： 1) 適用于高分辨率工藝(lift-off工藝)； 2) 適用于正/負(fù)圖形； 3) 很寬的膜厚范圍。 AZ 5200E系列光刻膠參考工藝條件： 前烘?：100℃ 60秒 (DHP)； 曝光?：I線步進(jìn)式曝光機(jī)/接觸式曝光機(jī)； 反轉(zhuǎn)烘烤?：110~125℃ 90秒 (DHP):去離子水30秒； 全面曝光?：310~405nm ?(在曝光光源下全面照射)； 顯影?：AZ300MIF (2.38) 23℃ 30~60秒Puddle； ? ? ? ? ：AZ Developer(1:1)23℃ 60秒Dipping； ? ? ? ? ：AZ400K(1:4)23℃ 60秒Dipping； 清洗?：去離子水30秒； 后烘?：120℃ 120秒 (DHP)； 剝離?：AZ剝離液及/或氧等離子體灰化； 產(chǎn)品型號(hào)：
? AZP4620超厚膜，高對(duì)比度，高感光度G線標(biāo)準(zhǔn)正型光刻膠，適用于半導(dǎo)體制造及GMR磁頭制造。 特征： 1) 高對(duì)比度，高感光度 2) 高附著性，對(duì)電鍍工藝高耐受性 3) 多種粘度可供選擇 參考工藝條件： 前烘?：100℃ 90秒以上 (DHP) 曝光?：G線步進(jìn)式曝光機(jī)/接觸式曝光系統(tǒng) 顯影?：AZ300MIF顯影液23℃ 60~300秒 清洗?：去離子水 后烘?：120℃ 60秒以上 剝離?：AZ剝離液及/或氧等離子體灰化 產(chǎn)品型號(hào)：
? AZ?4500系列??AZ4562 具有最佳粘附力的厚光刻膠 特點(diǎn)： AZ???4500系列（AZ???4533和AZ???4562）是正性厚光刻膠，在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能： l??優(yōu)化對(duì)所有常見基材的附著力 l??寬廣的工藝參數(shù)窗口，可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定且可重復(fù)的光刻工藝 l??與所有常見的顯影液兼容（基于KOH或TMAH） l??與所有常見的去膠劑兼容（例如AZ100去膠劑、有機(jī)溶劑或堿性溶劑） l??對(duì)g，h和i線敏感（約320-440 nm） l??光刻膠厚度范圍約?3-30微米 ? AZ???4500系列（AZ???4533和AZ???4562）的溶劑濃度不同，因此可達(dá)到的光刻膠膜厚有較大的范圍：
若光刻膠膜厚度 30 μm？ 通常，AZ?4562可以用來(lái)涂覆厚度達(dá)30微米及以上。然而，在該厚度范圍內(nèi)，軟烘烤、曝光、顯影等變得非常耗時(shí)。此外，如果涂得太厚，AZ?4562也可能在曝光期間形成N2氣泡。 因此，對(duì)于厚度大于30 μm的光刻膠膜厚度，強(qiáng)烈建議使用化學(xué)放大的AZ?40 XT光刻膠。 顯影液——適用于AZ???4500光刻膠 如果可以使用含金屬離子的顯影液，可使用1：4稀釋的KOH基AZ?400K作為顯影液（對(duì)于更高的光刻膠膜厚度，可用1：3.5 - 1：1的稀釋濃度）。 如果必須使用不含金屬離子的顯影液，我們建議使用基于TMAH基的AZ?326 MIF，AZ?726 MIF或AZ?826 MIF顯影劑（未稀釋）。 ? 去膠劑——適用于AZ???4500光刻膠 對(duì)于非交聯(lián)的光刻膠薄膜，可以使用AZ?100作為去膠劑，DMSO或其他常見的有機(jī)溶劑作為剝離劑。 如果光刻膠膜已交聯(lián)（例如，在干法蝕刻等離子工藝或離子注入時(shí)，> 140°C的高溫步驟時(shí)），我們建議使用不含NMP的TechniStrip P1316作為去膠劑。 EM膠
PMGI&LOR Lift-off光刻膠< |
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 版權(quán)聲明：以上所展示的信息由會(huì)員自行提供，內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員負(fù)責(zé)。機(jī)電之家對(duì)此不承擔(dān)任何責(zé)任。 友情提醒：為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購(gòu)買相關(guān)產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。 |
機(jī)電之家網(wǎng) - 機(jī)電行業(yè)權(quán)威網(wǎng)絡(luò)宣傳媒體
關(guān)于我們 | 聯(lián)系我們 | 廣告合作 | 付款方式 | 使用幫助 | 會(huì)員助手 | 免費(fèi)鏈接Copyright 2025 jdzj.com All Rights Reserved??技術(shù)支持：機(jī)電之家 服務(wù)熱線：0571-87774297
網(wǎng)站經(jīng)營(yíng)許可證:浙B2-20080178
