| 等離子刻蝕機PlasmaStar200RIE反應(yīng)離子蝕刻機 |
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價格：100.00 元(人民幣) | 產(chǎn)地：上海上海 |
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| 上架時間：2023-09-13 19:07:00 | 瀏覽量：123 | |
武漢邁可諾科技有限公司
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一、反應(yīng)離子刻蝕機PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR?系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料，擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外，觸摸屏計算機控制，多級程序控制和組件控制，操作簡單。PlasmaSTAR?模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的獨特功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁， 有幾種不同的電極設(shè)計，包括用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極，用于最小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。 1、腔體尺寸：直徑≥200mm，深度≥280mm； 2、腔體材質(zhì)：硬質(zhì)陽極氧化鋁矩形腔體； 3、處理腔背面材質(zhì)：鋁； 4、處理腔門：要求全自動腔門； 5、兩路工藝氣體，≥2路質(zhì)量流量控制器控制氣體流量，氣體輸入腔室?guī)蛄髟O(shè)計； 6、射頻功率：0~600W連續(xù)可調(diào)，13.56MHz，自動匹配，自然風(fēng)冷； 7、配備RIE平面水冷平板電極； 8、7英寸及以上顯示器、觸摸屏、圖形用戶界面；? 9、程序控制：觸摸屏電腦控制，無線程序存儲； 10、Windows操作系統(tǒng)，兼容Windows office軟件，USB接口，可進(jìn)行外部電腦遠(yuǎn)程控制的功能； 11、狀態(tài)和出錯信息提示，過程數(shù)據(jù)和出錯信息存儲，可選擇自動和手動操作模式，過程數(shù)據(jù)可以導(dǎo)出，工藝參數(shù)以圖形方式呈現(xiàn)，可實時監(jiān)控，自動實現(xiàn)泄露檢測； 12、配套緊急急停按鈕（EMO)，配套電路斷路器，機械聯(lián)鎖（門傳感器）和真空聯(lián)鎖（壓力開關(guān)），通過軟件可進(jìn)行遠(yuǎn)程的真空聯(lián)鎖； 13、典型的光刻膠刻蝕速率：80nm/min； 14、典型工藝均勻性：≥±10； 邁可諾技術(shù)有限公司 客服熱線：4008800298 Q Q：3488598979    
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