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    立式光氧活性炭一體機(jī)設(shè)備 光氧催化凈化器
    發(fā)布者:zclc88  發(fā)布時(shí)間:2022-02-25 15:36:31

    凈化原理

            廢氣在設(shè)備內(nèi)通過具有一定能量的光照射,光敏半導(dǎo)體材料即被光激發(fā)出電子 - 空穴對,吸附在 光敏半導(dǎo)體表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生電子或空穴,從而發(fā)生一系列的氧化還原反應(yīng),使污染物降解為二氧化碳和水等物質(zhì)。在外加紫外線的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生大量攜能電子轟擊污染物分 子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜的大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)?簡單小分子安全物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。然后極小部分未被裂解的污染物進(jìn)入活性炭吸附床, 有機(jī)污染物被吸附于活性炭的微孔之中,Z終排放潔凈的氣體。

    產(chǎn)品性能

        高效除惡臭:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率高,脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。

        適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理,可每天24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

        運(yùn)行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作,無噪音,無需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,設(shè)備風(fēng)阻低,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

        無需溫濕度處理:惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30°-95°之間,濕度在40%-98%之間均可正常工作。

        設(shè)備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。

        較優(yōu)質(zhì)材料制造:防火、防腐蝕性能高,性能穩(wěn)定,使用壽命長。

        環(huán)保高科技產(chǎn)品:通過及我公司工程技術(shù)人員長期反復(fù)的試驗(yàn),開發(fā)研制出的,可分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì),并能達(dá)到想要的脫臭效果,經(jīng)分解后的惡臭氣體,可達(dá)到無害化排放,不產(chǎn)生二次污染,同時(shí)達(dá)到高效消毒殺菌的作用。

    UV光氧催化設(shè)備采用地和遠(yuǎn)程兩種運(yùn)行模式:地控制模式下,通過控制箱的控制按鈕控制設(shè)備的啟停;在遠(yuǎn)程控制模式下,可在上位機(jī)對設(shè)備進(jìn)行啟?刂。提供與控制室相適應(yīng)的接口,能實(shí)現(xiàn)地與遠(yuǎn)程控制。

    科技含量高:采用UV裂解廢氣物質(zhì)的化學(xué)鍵及氧化技術(shù),突破單一體系的反應(yīng)局限,在整個(gè)反應(yīng)體系中,有兩種氧化能力的氧化劑—O3和·OH參與反應(yīng),使得脫臭**佳,惡臭氣體礦化程度高,可化排放,無二次污染。具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的環(huán)保凈化產(chǎn)品。

    UV光氧催化設(shè)備的特點(diǎn):

    除惡臭:光量子催化氧化除臭設(shè)備能去除揮發(fā)性物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭,污染物均被證實(shí)可通過光解催化氧化治理,即使對原子物如鹵代烴、燃料、含氮物、磷殺蟲劑也有很好的去除**。無需添加任何化學(xué)物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力,使惡臭氣體通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化,無需添加任何化學(xué)物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

    UV光氧催化設(shè)備適用范圍廣:可適應(yīng)高、低濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理,可每天24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定。

    UV光氧催化設(shè)備運(yùn)行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作,無噪音,無需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

    UV光氧催化設(shè)備占地面積。鹤灾剌p:適合于布置緊湊、場地狹小等條件。

    UV光氧催化設(shè)備材料制造:使用壽命長。

    UV光氧催化設(shè)備適用范圍:煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料廠、噴涂溶劑等和無機(jī)物惡臭氣體的脫臭凈化處理、餐飲業(yè)、噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、、造紙、釀造等生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢氣

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