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PLC企業(yè)資訊
    鐵礦石全分析光譜儀化驗設(shè)備
    發(fā)布者:范茂海  發(fā)布時間:2023-11-17 10:00:00

    QCYQ-JS9000B 礦石專用光譜分析儀主要應(yīng)用于采礦作業(yè)(勘探、開采、品位控制),工業(yè)礦物,生產(chǎn)水泥和建筑材料的原材料,耐火材料,陶瓷和玻璃,地球化學(xué)學(xué)術(shù)研究,考古等。線性動態(tài)范圍,可實現(xiàn)在水泥、礦物、采礦、金屬、玻璃和陶瓷行業(yè)進行精度的過程控制和質(zhì)量控制。具有全新真空光路系統(tǒng)和分辨率技術(shù)的新一代fast sdd檢測器,對輕、中、重元素和常見氧化物(Na2o、Mgo、Al2o3、Sio2、P2o5、So、k2o、Cao、Tio2、Cr2o、Mno、Fe2o、Zno和sro等)都可達到分析效果。

    分析性能,使其可以輕松完成對以下礦種的測試:

    鐵礦(磁鐵礦、赤鐵礦、鈦鐵礦、菱鐵礦等)

    銅礦(黃銅礦、赤銅礦、孔雀石等)       鉻礦(鉻鐵尖晶石、鉻鐵礦、鉻鉍礦等)

    鉬礦(輝鉬礦、銅鉬礦、鎢鉬礦等)      鎢礦(白鎢礦、黑鎢礦、錫鎢礦等)

    鉭礦(鉭鐵礦、鈮鐵礦、燒綠石等)       鉛鋅礦(方鉛礦、閃鋅礦、白鉛礦等)

    鎳礦(紅土鎳礦、硫化銅鎳礦等)          鋁土礦   其它礦類

    產(chǎn)品特點

    1.小型化、高性能、高速度、易操作,高靈敏度、高精度分析

    2.可同時分析40種元素

    3.采用多準(zhǔn)直器多濾光片和扣背景技術(shù)

    1. Peltier電制冷 FAST SDD硅漂移檢測器提供出色的短期重復(fù)性和長期再現(xiàn)性以及出色的元素峰分辨率

    5.超高記數(shù)數(shù)字多道電路設(shè)計,雙真空抽速機構(gòu),真空度自動穩(wěn)定系統(tǒng)

    6.標(biāo)配基本參數(shù)法軟件,多任務(wù),多窗口操作

    7.薄膜濾光片技術(shù),有效提高輕元素檢出限

    先進制成Peltier電制冷 FAST SDD硅漂移檢測器

    真空光路配備薄膜濾光片技術(shù),提高輕元素檢出限

    可同時分析40種元素

    可分析固體,液體,粉末和泥漿

    原裝進口X光管管芯提供可靠卓越樣品激發(fā)性能

    無損檢測,快速分析(1-2分鐘出結(jié)果)

    無需化學(xué)試劑,無耗材,更環(huán)保,更高效

    儀器參數(shù)

    儀器外觀尺寸: 565mm*385mm*415mm

    超大樣品腔:465mm*330mm*110mm

    半封閉樣品腔(抽真空時):Φ150mm×高75mm

    儀器重量: 48Kg

    元素分析范圍:Na11-U92鈉到鈾

    可分析含量范圍:1ppm- 99.99%

    探測器:AmpTek 超高分辨率電制冷Fast SDD硅漂移檢測器

    探測器分辨率:122 eV FWHM at 5.9 keV

    處理器類型:全數(shù)字化DP-5分析器

    譜總通道數(shù):4096道

    X光管:高功率50瓦光管(原裝進口管芯),冷卻方式:硅脂冷卻

    光管窗口材料:鈹窗

    準(zhǔn)直器:多達8種選擇,最小0.2mm

    濾光片:7種濾光片的自由選擇和切換

    高壓發(fā)生裝置:原裝美國高壓,電壓輸出:0-50kV;輸出電流:0-1mA

    高壓參數(shù):最小5kv可控調(diào)節(jié),自帶電壓過載保護,輸出精度:0.01%

    樣品觀察系統(tǒng):500萬像素高清CCD攝像頭

    電壓:220ACV 50/60HZ

    環(huán)境溫度:-10 °C 到35 °C

     

     

    儀器配置

    標(biāo)準(zhǔn)配置

    可選配置

    純Ag初始化標(biāo)樣

    磨樣機

    真空泵

    壓片機

    礦石專用樣品杯

    烘干箱

    USB數(shù)據(jù)線

    全自動熔樣機

    電源線

    電子秤

    測試薄膜

    礦石標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)

    儀器出廠和標(biāo)定報告

    交流凈化穩(wěn)壓電源

    保修卡

    150目篩子

    全新設(shè)計的XTEST分析軟件

    軟件內(nèi)核包括基本參數(shù)法(FP),經(jīng)驗系數(shù)法(EC),可輕松分析各類樣品。

    光譜處理參數(shù)包括用于定義背景連續(xù)性,堆積峰和峰總和,平滑度以及測量到的峰背景光譜的數(shù)量

    對吸收以及厚膜和薄膜二次熒光的完全校正,即所有基質(zhì)效應(yīng),增強和吸收。

    譜顯示:峰定性,KLM標(biāo)記,譜重疊比較,可同時顯示多個光譜圖

    可以通過積分峰的凈面積或使用測得的參考光峰響應(yīng),將光峰強度建模為高斯函數(shù)。

    可以使用純基本參數(shù)方法,具有分散比的基本參數(shù)(對于包含大量低Z材料的樣品)或通過簡單的最小二乘擬合進行定量分析。

    基本參數(shù)分析可以基于單個多元素標(biāo)準(zhǔn),多個標(biāo)準(zhǔn)或沒有標(biāo)準(zhǔn)的樣品。

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