6、設(shè)備占地面積小進(jìn)而產(chǎn)生臭氧徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的設(shè)備性能特點(diǎn):自重輕:處理10000m3/h風(fēng)量設(shè)備占地面積
光氧廢氣凈化設(shè)備簡介
一、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。 UV＋O2→O- O＊（活性氧）O O2→O3（臭氧）,眾所周知臭氧對有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
物質(zhì)的光解反應(yīng)就越容易同時(shí)達(dá)到高效消毒殺菌的作用。惡臭氣體（工業(yè)廢氣）UV高效光解凈化設(shè)備適用范圍 煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠、飼料魚粉廠、印染廠、噴涂廠等惡臭氣體的脫臭凈化處理。2、造價(jià)低，設(shè)備投資可降低20%—30%
三、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的
五、無需預(yù)處理：惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在3-11之間均可正常工作。
六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。七、優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。
