一、項(xiàng)目背景
太陽(yáng)能硅片的清潔程度對(duì)太陽(yáng)能電池的繼續(xù)發(fā)展有著很大的影響，所以人們對(duì)太陽(yáng)能硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求。太陽(yáng)能硅片在經(jīng)過(guò)切片、倒角、研磨、拋光等加工過(guò)程中，表面會(huì)受到不同程度的污染，比如顆粒、金屬離子以及有機(jī)物。如果沒(méi)有處理好這些污染的話(huà)，器件性能會(huì)受到很大程度的影響。硅片清洗劑大多數(shù)呈堿性液體，主要成分是苛性堿、磷酸鹽、硅酸鹽、碳酸鹽、鰲合劑和表面活性劑；硅片清洗劑利用化學(xué)剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬離子等污染物去除。清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面，使其長(zhǎng)期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)（>120h），而不像難清洗的化學(xué)吸附狀態(tài)轉(zhuǎn)化，并在表面形成保護(hù)層，防止顆粒的二次吸附，實(shí)現(xiàn)了把有害吸附轉(zhuǎn)化為無(wú)害吸附。能有效提高外延或擴(kuò)散工序的成品率。市面常見(jiàn)硅片清洗劑主要有三種，分別是單組份清洗劑，雙組份清洗劑，多組分清洗劑。
二、項(xiàng)目特點(diǎn)
1)清洗效果好，清洗后硅晶片表面色澤一致，無(wú)花斑;
2)對(duì)硅片切割液﹑研磨液、動(dòng)物油、植物油、礦物油污、懸浮液等具有較好乳化﹑分散及清潔作用，且使用壽命長(zhǎng)，易于清洗漂洗。
3)對(duì)金屬離子有很強(qiáng)的螯合、絡(luò)合、剝離、洗凈效果，經(jīng)檢測(cè)對(duì)油污的洗凈率為99%，對(duì)銅、鐵等金屬離子的螯合、絡(luò)合、剝離、洗凈效果達(dá)到98%以上；
4)低泡產(chǎn)品，適合在超聲波上使用,不會(huì)有泡沫溢出;
5)除鉀、鈉離子以外的金屬離子含量不高于50PPm，清洗后的硅片表面無(wú)殘留,硅片制絨及光電性能好；
6)該清洗劑中溫使用，濃度高，可稀釋20-50倍，而且該產(chǎn)品粘度低、高效、環(huán)保無(wú)磷、易于生物降解，環(huán)保性能好。
7)添加緩蝕劑，對(duì)被清洗的硅片及清洗設(shè)備不會(huì)產(chǎn)生腐蝕；
8)適用于刷洗、浸泡、超聲波等清洗方式，是進(jìn)口及國(guó)產(chǎn)清洗機(jī)理想的配套產(chǎn)品。
三、項(xiàng)目開(kāi)發(fā)價(jià)值：
1)技術(shù)難點(diǎn)
a.多數(shù)廠(chǎng)家在更換清洗劑時(shí)硅片會(huì)出現(xiàn)大量臟片、花片;
b.特殊功能表面活性劑，很難找到合適的牌號(hào)及廠(chǎng)家；
c.常見(jiàn)硅片清洗劑缺乏高效緩蝕劑。
2)市場(chǎng)價(jià)值：
a.硅片清洗技術(shù)由國(guó)外知名公司長(zhǎng)期技術(shù)壟斷，國(guó)內(nèi)企業(yè)自主開(kāi)發(fā)及技術(shù)創(chuàng)新尤為重要；
b.多數(shù)光伏企業(yè)及科研所在長(zhǎng)期從事該項(xiàng)目的研發(fā)；且因自身諸多缺陷未能取得技術(shù)性突破；因而該項(xiàng)目有較高的開(kāi)發(fā)價(jià)值；
c.禾川研發(fā)中心自主研發(fā)出高效復(fù)配型表面活性劑及高效緩蝕劑，可大幅提高硅片清洗能力，有效提高硅片成品率。
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4.簽訂嚴(yán)格保密協(xié)議，單獨(dú)項(xiàng)目委托研發(fā)，并可提供技術(shù)創(chuàng)新方案指導(dǎo)。
